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半導體材料

CMP工藝過程中需要多種耗材,如拋光墊(PAD)、拋光液(SLURRY)、鉆石碟(DISK)、清洗刷(BRUSH)等。

CMP耗材具有技術(shù)壁壘高,客戶認證時間長的特點。目前國產(chǎn)化率很低,GMC計劃利用客戶群和自身技術(shù)優(yōu)勢,致力于成為CMP全產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)商。

CMP材料生產(chǎn)基地已啟動,生產(chǎn)多種CMP耗材。

深入了解客戶需求
產(chǎn)品設(shè)計以客戶為本

先進的工藝理念
指引產(chǎn)品研發(fā)方向

專業(yè)的測試平臺
貼近實際使用環(huán)境

多樣的產(chǎn)品序列
滿足客戶多樣需求

有力的管理體系
保證產(chǎn)品品質(zhì)質(zhì)量

深厚的設(shè)備底蘊
提供強大技術(shù)支持

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